本實(shí)用新型公開了一種退火爐燒嘴,涉及用于管子的熱處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域.本實(shí)用新型包括燒嘴頭,助燃風(fēng)管,煤氣管和側(cè)壁設(shè)有風(fēng)孔的固定助燃風(fēng)套,助燃風(fēng)管密封固定于燒嘴頭的側(cè)壁,固定助燃風(fēng)套固定于燒嘴頭的空氣室內(nèi)底部,煤氣管的下端穿過燒嘴頭上的第一固定法蘭伸入到固定助燃風(fēng)套內(nèi),在煤氣管的中上部還密封固定有彎管,該彎管通過連接法蘭與連接管固定,連接管通過煤氣閥與高爐煤氣管連通,在煤氣管下端的出口處設(shè)有火焰擋板,在火焰擋板的上方設(shè)有螺旋式葉片,火焰擋板和螺旋式葉片均與穿過煤氣管內(nèi)部的連接桿固定連接.本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,安拆容易,清理方便,使用安全可靠,火焰大小可調(diào),燃燒柔和,均勻穩(wěn)定,退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響其電性能.熱處理是針對(duì)不同的效果而設(shè)計(jì)的.可以加熱晶片以激活摻雜劑,將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長(zhǎng)的薄膜的狀態(tài),修復(fù)注入的損傷,移動(dòng)摻雜劑或?qū)诫s劑從一個(gè)薄膜轉(zhuǎn)移到另一個(gè)薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底.退火爐可以集成到-爐子處理步驟中,例如氧化,或者可以自己處理.退火爐是由專門為加熱半導(dǎo)體晶片而設(shè)計(jì)的設(shè)備完成的.退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐,超節(jié)能結(jié)構(gòu),采用纖維結(jié)構(gòu).